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供应苏州专业的铜退火厂家

更新时间:2015-11-13    有效期:60个月     加入收藏

供应苏州专业的铜退火厂家

详细的产品描述:

1退火工艺简介退火:往半导体中注入杂质离子时,高能量的入射离子会与半导体晶格上的原子碰撞,使一些晶格原子发生位移,结果造成大量的空位,将使得注入区中的原子排列混乱或者变成为非晶区,所以在离子注入以后必须把半导体放在一定的温度下进行退火,以恢复晶体的结构和消除缺陷。同时,退火还有激活施主和受主杂质的功能,即把有些处于间隙位置的杂质原子通过退火而让它们进入替代位置。 2快速退火工艺简介RTP(Rapid Thermal Processing)快速热处理,是在非常短的时间内将整个硅片加热至400~1300℃湿度范围内的一种方法,相对于炉管退火,它具有热预算少,硅中杂质运动小,玷污小和加工时间短等特点。 3快速退火炉设备台湾快速退火炉分为科研型和生产型,科研型快速退火炉e1200、CT100M、CT150M三种型号系统专用于科学研究。适用于Si, Ge, Si/Ge, GaAs, InP及其他半导体材料的热处理工艺。快速退火炉CT100M/150M 快速退火炉CT100M/150M[1]

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